兆聲濕法去膠技術

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：

兆聲和清洗技術的發(fā)展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

LSC系統(tǒng)提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以*節(jié)省化學試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。

通過聯(lián)合使用化學試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了z低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢，的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會有更大數(shù)量的顆?；馗?，并且因此需要更多的去除這些顆粒。

此外，NANO-MASTER的清洗機都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機械的方式去除無圖案基片上的污點和殘膠。DI水臭氧化的選配項提供了有機物的去除，而無須腐蝕性的化學試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結合可以達到納米級的顆粒去除。根據(jù)不同的應用，某些選配項將會進一步提高設備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。

SWC系統(tǒng)能夠就地實現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干。“干進干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以z低的投資和購置成本來實現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機的工藝處理時間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。

NANO-MASTER的技術也適用于清洗背部以及帶保護膜掩模版前面的對準標記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)應用：

• 光刻膠去除/剝離
• 硅片
• 藍寶石片
• 圓框架上的芯片
• 顯示面板
• ITO涂覆的顯示屏
• 帶保護膜的分劃版
• 掩模版空白部位
• 掩模版接觸部位
• 帶圖案/不帶圖案的掩模版

特點：

• 支持450mm直徑的圓片或15”x15”方片
• 帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學試劑滴膠臂的大腔體
• 帶化學試劑滴膠的刷子轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)
• 帶LABVIEW軟件的PC全自動控制
• 觸摸屏用戶界面
• 手動上下載片
• 安全互鎖及警報裝置
• 30”D x 26”W 的占地面積  

 選配項：

• 化學試劑傳輸模塊
• Piranha溶液清洗                                       
• 臭氧化DI水（20ppm的O3）
• 氫化的DI水
• 高壓DI水
• 熱DI水
• 溶劑和酸分離排放
• IR紅外加熱
• DI水循環(huán)機
• 耐火立柜
• 機械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面