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盤(pán)點(diǎn)微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的應(yīng)用和特點(diǎn),你都知道多少?

更新時(shí)間:2020-11-24      瀏覽次數(shù):1444

    微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可達(dá)6”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5cfm的機(jī)械泵,腔體可以達(dá)到低至10-7torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋z廣的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。

    微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用:

    等離子誘導(dǎo)表面改性:就是通常所說(shuō)的用等離子實(shí)現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)

    等離子清洗:去除有機(jī)污染物

    等離子聚合:對(duì)材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)

    沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類(lèi)金剛石),以及其它薄膜

    CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長(zhǎng):在需要的位置生長(zhǎng)CNT或石墨烯。

    微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn):

    立式系統(tǒng)

    自動(dòng)上下載片,帶預(yù)真空鎖

    不銹鋼或鋁制腔體

    極限真空可達(dá)10-7Torr

    RF淋浴頭,HCD或微波等離子源

    高達(dá)6”(150mm)直徑的樣品臺(tái)

    RF射頻偏壓樣品臺(tái)

    水冷樣品臺(tái)

    可加熱到的800°C樣品臺(tái)

    加熱的氣體管路

    加熱的液體傳送單元

    抗腐蝕的渦輪分子泵組

    z大可支持到8MFC

    基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

    菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)

    完整的安全聯(lián)鎖
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