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離子銑刻蝕系統(tǒng)的工作原理和技術(shù)指標(biāo)

更新時間:2022-04-24      瀏覽次數(shù):843
 
  離子銑刻蝕系統(tǒng)是利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對固體材料濺射刻蝕,對固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。
 
  離子銑刻蝕系統(tǒng)的原理:
 
  氬氣在輝光放電原理的作用下被分解為氬離子,氬離子通過陽極電場的加速物理轟擊樣品表面來使得刻蝕的作用達(dá)到。往離子源放電室充入氬氣并且使其電離使得等離子體形成,然后通過柵極引出離子呈束狀并且加速,往工作室進(jìn)入一定能量的離子束,往固體表面射向?qū)腆w表面原子進(jìn)行轟擊,使材料原子發(fā)生濺射,使刻蝕目的達(dá)到,屬于純物理刻蝕。
 
  離子銑刻蝕系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo):
 
  各種金屬以及氧化物等復(fù)雜體系的刻蝕等為離子束刻蝕系統(tǒng)的主要應(yīng)用,在物理,生物,化學(xué),材料,電子等領(lǐng)域得到了非常廣泛的應(yīng)用。
 
  裝片:一片6英寸,向下兼容任意規(guī)格樣品
 
  極限真空:8.5e-5帕(45分鐘從atm抽至5e-4帕)
 
  基底冷卻溫度:5-25攝氏度
 
  樣品臺旋轉(zhuǎn):自轉(zhuǎn)9rpm,傾斜0-90度
 
  離子能量:100-650電子伏特
 
  束流密度:0.2-0.7毫安/平方厘米
 
  刻蝕均勻性:±5%(4英寸)
 
  離子銑刻蝕系統(tǒng)的主要用途:
 
  物理刻蝕的方式為離子束刻蝕系統(tǒng)所采用,任何材料各向異性的刻蝕經(jīng)過電場加速的離子束能夠?qū)崿F(xiàn),并且能夠按照傾角不同對側(cè)壁形貌進(jìn)行調(diào)整與使被濺射材料的再沉積污染減少。
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