NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2023-11-13
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產(chǎn)品詳情

IBE離子束刻蝕

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為。

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點：

低成本
離子束：高達(dá)2KV/10mA
離子電流密度100-360uA/cm2
離子束直徑：4",5",6"
兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
極限真空5x10-7Torr
260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵
14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)
自動上下載片（NIE-3500）
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
占地面積30"x30"

產(chǎn)品應(yīng)用：

表面清洗
表面處理
離子銑
帶活性氣體的離子束刻蝕
光柵刻蝕
SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕

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NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

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