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您的位置:首頁  -  產(chǎn)品中心  -  清洗去膠系統(tǒng)  -  單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī)  -  SWC系列/LSC系列硅片清洗機(jī)

硅片清洗機(jī)

硅片清洗機(jī):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

  • 產(chǎn)品型號:SWC系列/LSC系列
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪  問  量:2136
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產(chǎn)品詳情

硅片清洗機(jī)概述:兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng),用于*進(jìn)的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng),可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力,提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。

硅片清洗機(jī)應(yīng)用:

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
  • CMP處理后的晶圓片清洗
  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗
  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
  • 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗
  • X射線及極紫外掩模版清洗
  • 光學(xué)鏡頭清洗
  • ITO涂覆的顯示面板清洗
  • 兆聲輔助的剝離工
  • 硅片和藍(lán)寶石片清洗
  • 帶晶圓框架的芯片清洗
  • FSI清洗
  • 硅片和藍(lán)寶石片清洗
  • 帶晶圓框架的芯片清洗
  • 顯示平板,ITO涂層顯示屏清洗
  • 帶圖案及無圖案掩模版清洗
  • 帶保護(hù)膜分劃板的背面清洗
  • 薄膜結(jié)構(gòu)膠粘劑清洗
  • 光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠
  • 背面多晶去除
  • 顯影和其他刻蝕應(yīng)用

硅片清洗機(jī)選配項(xiàng):

  • 掩模版或晶圓片夾具
  • PVA軟毛刷清洗(100RPM)
  • 化學(xué)試劑清洗(CDU)
  • 氮?dú)怆x子發(fā)生器
  • CMP后的刷子清洗(可高達(dá)400RPM)
  • 背面去離子水清洗和干燥
  • CO2注入,帶DIW電阻率監(jiān)測單元
  • 用于DIW或hua'xue'shi'ji化學(xué)試劑的內(nèi)嵌式加熱器
  • 化學(xué)液補(bǔ)滿傳感器
  • FM4910材料
  • 25片casssette機(jī)械手自動上下片

 硅片清洗機(jī)型號:

  • SWC-3000臺式單晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)
  • SWC-4000立柜式單晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)
  • SWC-5000帶25片cassette機(jī)械手自動清洗
  • LSC-4000大基片清洗機(jī)
  • LSC-5000全自動清洗系統(tǒng)
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